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半導体２(2007年06月24日)
前回は半導体の製造の３つの過程を見ましたね。シリコンウェハーの製造、インゴットの切断、そうして成膜と言う処理です。
今度はフォトレジストと言う感光性樹脂をウェハーの表面に塗ります。そうしてフォットマスクを介し、露光させ回路を焼きつけ現像し、不要になった酸化膜をエッチングと言う作業で取り除きます。
フォトレジストの世界トップメーカーはＪＳＲ―４１８５、東京応化―４１８６、信越化学―４０６３と続きます。
フォトマスクの世界でトップは印刷会社の凸版印刷―７９１１で二番手は大日本印刷－７９１２です。
露光装置では、オランダのＡＳＭＬがトップで、キャノンが二番手、ニコン―７７５２と続きます。
資料は社団法人日本半導体製造装置協会より